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实验室中,叶明将准备好的两份文件拿了出来,一份为铜制工艺的优化调整,0。13微米铜制程技术。
到现在为止苔积电还一直用铝制技术,在霉欧的封锁下,可能他们都没听说过!铜的电阻系数比铝还要低三倍,当电流太大的时候就会产生电迁移现象,当电阻系数降低,就能有效降低因为电迁移而导致的原子流失,制作也将更加稳定方便。
全铜制程技术是未来发展不可或缺的一步,能提前拿出来就能尽快占据国际市场。
相较于0。15微米器件,0。13微米工艺能使芯片的面积缩小百分之二十五的同时,性能提高百分之三十,使用八层金属层,宽度仅为八十纳米的门电路,能制作出核心电压为1。2V的组件。
铜制程除了电阻系数低的优点,还有一个关键点是以低介电质绝缘作为介电层材料。
如果说铜是芯片的骨头,那么低介电质绝缘材料就是肌肉,两者是相辅相成的。
对于这种低介电质绝缘材料叶明之前并没关注过,而且这种东西是严格保密的,加上前世对华夏的防范,这种材料的搭配和制作方式根本不可能流传出来。
叶明只知道现在使用的绝缘材料是传统氧化硅,介电常数大概是四左右,但那种保密材料的介电常数低至二点五左右!而低介电系数能够降低集成电路的漏电电流、降低导线之间的电容效应、降低电路发热等各种好处。
这种绝缘材料是一种芳香族热固性有机材料,不含氟、不含氮和氧,以寡聚物溶液的形式提供,到硅片上后在氮条件下加热完成初步交联。
而且他还知道如果这种材料中添加纳米级的空洞,能够更进一步降低介电系数,最低能够降到二点二左右,相比于传统氧化硅绝缘有着巨大无比的优势。
叶明将手中的第一份材料放在办公桌上,坐在办公室里都是研究室里顶尖的芯片研究大佬,深耕芯片研究很多年了。
在听完叶明简略的讲述,众人的表情各不相同。
有的若有所思,像是思考这个研究方向的可行性,有的则是事不关己高高挂起,最多的是满脸的不相信。
眼前这个在芯片圈子里从来没听过的人,随手拿出看起来就异想天开的项目,拿出一个简单的规划和最后的结果就要让他们全力研究。
这人到底懂不懂什么是研究?
研究你必须得理性制定计划、提出设想、笼络人才后探索未知,才能研究出一点东西。
其中最重要的是探索未知,还没开始研究,就知道最后的结果,你怕不是开天眼了?
就连坐在一旁的张中谋也是定神盯着叶明,他也想不通只知道开头,中间一概不知是怎么知道结局的?来之前他还觉得这次跟对人了,苔积电绝对能节节高升,现在他却有点慌。
看着会议室在听完第一份资料后冷场,叶明并没有直接辩解,而是直接展开第二份资料。
第二份资料比第一份资料多了两页,上面的技术也更难。
湿法刻蚀技术,是将刻蚀介质浸泡在刻蚀剂液体内进行蚀刻,能够极大降低芯片蚀刻成本,同时能够快速批量制作,同时能够蚀刻二十五到五十个晶圆。
蚀刻速度快,成本大幅度降低,蚀刻价格能够降低到十分之一左右,在不太高端的产品完全能够实现大规模量产,降低芯片的生产周期。
讲完第二种技术,办公室的人眉头皱的更深了。
又是一种只讲大概就知道结果的技术,叶总真的不是拿他们开玩笑?只是一个构思就笃定研究出东西的作用吗,这种情况换谁都不太相信吧?
接下来实验室的研究方向就是这两种技术,当然优先研究第一种技术,以质量先征服国际市场,之后再以数量取胜!你们还有什么问题吗?
叶明扫了眼众人,示意现在是他们提出问题的时间。
“叶总,我看你的计划都不是完整的计划,又是怎么得出每种技术研究后的结论的?听到叶明让提问,马上就有人坐不住问道。
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